ロータリーランス注入

当社の特許取得済み技術により、注入試薬の分散性が向上し、その結果、試薬の効率向上、試薬消費量の削減、飛散の低減、および温度損失の低減が実現されます。

デュアルランス注入

当社の特許取得済み「デュアル・ランス」システムをはじめとするランス注入システムは、注入時間の短縮、温度損失の低減、およびランスの耐用年数の向上を実現します。

複数ノズルへの注入

当社の特許取得済みシステムにより、1つの注入システムで2本のランスを通じて注入を行うことが可能となり、スペースに制約がある場合でも、全体的な設置面積を小さく抑えることができます。

射出成形装置

当社の特許取得済み技術により、注入試薬の分散性が向上し、その結果、試薬の効率向上、試薬消費量の削減、飛散の低減、および温度損失の低減が実現されます。

特注機器

これには、粉末注入装置、自動タンカー荷下ろしシステム、温度サンプリング装置駆動装置、ランス駆動装置、フロービンスタンド、スラグスキマー、窒素バブラーランス駆動装置、産業用パネル、および空気輸送システムが含まれます。